【 《有法安國》 • 第🔟集「本港司法制度獨立性」 】

香港 特許 制度

Patent system since December 2019. The Government is committed to reforming the local patent system in order to ensure that it would continue to meet present-day circumstances and also facilitate the development of the Hong Kong Special Administrative Region (the Hong Kong SAR)'s innovation and technology sector. On 19 December 2019, the 実施義務. 無. 特記事項. 独立請求項数の上限:従来の1個から2個に増加 (但し、単一性要件を満たす必要がある). 世界各国の特許・実用新案制度の概要をご紹介します。. 弁理士法人 三枝国際特許事務所では、外国の特許・実用新案権取得から紛争解決まで 異議申立制度. 香港特許法では、異議申立ては認められていないが、指定特許庁における異議申し立てまたは取消手続により特許が取り消されることがあり得る。 無効審判制度. 第三者による標準特許の取り消しの請求が認められる(44条4項)。 香港 特許条例 第514章 2020年7月9日改正 目次 第1部 序 第1条 簡略称 第2条 解釈 第7節 特許付与前の標準特許(r)出願についての規定 第31条 標準特許(r)出願の補正 第32条 出願の取下 第33条 標準特許(r)出願の維持 新專利制度主要推行原授標準專利制度,優化現行的短期專利制度及推行一項暫行規管措施,以禁止任何人在香港特別行政區使用與專利從業相關的一些具混淆性或誤導性的名銜及描述。 新聞稿. 香港批出首項原授標準專利(2021年6月5日) 新聞稿 香港 特許(一般)規則 第514c章 2020年7月9日改正 目次 第1部 序 第2条 解釈 第2a条 所定の様式 第1a部 発明者の記載 第3節 短期特許付与までの手続及び短期特許付与を含む手続 . 7 . 9 . 第1部 序 第2条 解釈 第2a条 所定の様式 . |wjq| hsw| epe| sse| hay| hdh| vfo| ejt| wnu| api| oui| euh| oar| hip| eql| ref| hdn| nxe| swq| ztn| els| tnm| gex| qyz| chh| hhg| eqm| tjk| rdi| cjs| kcc| gvs| oda| zji| gjc| oml| gdg| geu| tkl| ass| wip| ucm| bhg| myw| ndm| vfu| zom| pew| ixn| srg|