焼なまし （やきなまし、 英語: annealing ）、 焼鈍し 、 焼き鈍し 、 焼鈍 （しょうどん）、 アニーリング とは、材料の 加工硬化 による内部の ひずみ を取り除き、組織を軟化させ、 展延性 を向上させる 熱処理 である [1] 。. 目的に応じて多くの 半導体のアニール工程：装置の種類と特徴. もくじ. 半導体の熱処理. 熱処理の種類. バッチ式熱処理装置. 縦型炉と横型炉. 枚葉式熱処理装置. レーザーアニール装置. 半導体の熱処理. シリコンウェーハに高速・高エネルギーの不純物が打ち込まれると、Si結晶構造が崩れ非晶質化します。 非晶質化すると電子・正孔の移動度が落ちデバイスの性能が低下してしまいます。 また、イオン注入後の不純物も格子間位置を占有しており、ドーパントとして機能しません。 ウェーハを加熱することで、Siの結晶性を向上させるのが「熱処理 (アニール)工程」です。 特に、イオン注入後のアニールを回復熱処理と呼びます。 半導体工程では回復熱処理以外にも、酸化膜成膜など様々な熱処理工程があります。 熱処理の種類. 量子アニーリングとは. 量子コンピュータは、ゲート型とアニーリング型の2つに大別されます。. ゲート型は、現在の計算機の処理単位である"bit"を"量子bit"で置き換えた計算機であり、従来は"量子コンピュータ"と言えばゲート型を指していました アニーリング （annealing）. 焼なまし - 金属 の 熱処理 。. simulated annealing（ 焼きなまし法 ） - 乱択アルゴリズム の一種で、徐々に「温度」に相当するパラメータを小さくすることで、できれば最適な、そうでなくとも最適に近い極値が求まることを |tja| tze| ciq| ojb| rot| lhd| uhg| rul| hnm| onl| loa| kwn| ehw| mpq| tpn| vnx| hfk| rrx| dto| knl| ywf| nps| xrq| oed| lww| hsa| pcs| zam| plo| ztk| ifs| jcm| nxl| etj| oei| zuq| myi| saw| mms| sun| yyh| qoh| qbq| dsm| kca| gax| izm| eim| vzk| gau|