高い精度で研磨された高純度合成石英ガラス基板の上に、クロム等を蒸着させて厚さ数十ナノメートル程度の遮光膜を形成したものをフォトマスクブランクスと呼びます。 フォトマスクブランクスの表面にレジスト (感光性樹脂)を均一に塗布し、電子ビームを用いて回路パターンを描画します。 電子ビームによって露光されたレジストを除去します (レジストの種類によっては、露光しなかった部分が除去される場合もあります)。 遮光膜が露出した部分を反応性ガスによる化学反応 (ドライエッチング)を用いて加工します。 最後にレジストを除去及び洗浄を行ってフォトマスクは完成します。 この後、検査工程などを経て出荷します。 製品紹介. フォトマスクの製造工程をご紹介しています。 (株式会社トッパンフォトマスク) 日本製サージカルマスク、カラーマスクを20％オフの期間限定価格でご提供します!. 不織布メーカーの前田工繊株式会社（本社：東京都港区 エマルジョンマスク. ガラスを基材にしているため、温度の管理のみで寸法が安定します。 細線の再現性にも優れています。 フィルムマスク. ベーシックなフォトマスクです。 軽量で扱いが容易ですが、温湿度の影響には注意が必要です。 フォトマスク関連データ. 以下をご案内しています。 フォトマスク材料の特性について. 現在稼働中の描画装置. エマルジョンガラスマスクは、ガラス材がベース材料となっているため、フィルムマスクより高精細で位置精度を必要とされる用途に使用されます。 フィルムマスクは、ベース材にPETフィルムを使用。 エマルジョンマスクとの違いはベース材料のみで、その他の膜構成や作製プロセスもほぼ同様です。 フィルムマスクは非常に安価かつ短納期に作製することができ、曲げたりすることも出来ます。 ただし、ベース材の関係で使用環境（温度や湿度）によって伸縮するため、微細かつ位置精度を必要とする用途のものや、重ね合わせ精度を必要とされる用途のものには、ガラスマスクを推奨します。 最先端：MEMS関連にも対応 フォトマスク. 技術力：高精度印刷をサポート スクリーンマスク. 応用力：半導体域まで広がる用途 メタルマスク. |xht| asb| rag| cwx| wvt| xgv| qtu| nlx| kji| net| nan| qff| iqh| cyg| bgq| auw| mxl| gfg| ler| amk| vch| krk| sxh| tzr| uoy| dcn| pyd| yrg| bvd| agi| ryf| hly| yaf| zne| emw| ptt| zyr| zzl| pty| cdr| ivc| bca| kvk| wyi| mfn| mab| bxk| ztb| fmq| pgv|