HOME. 製品紹介. 半導体用フォトマスク. バイナリーマスクとは単純な遮光膜のパターンのみで形成されるマスクです。 単純に光を透過する／遮断するという機能のみのマスクで、主として露光波長以上の太さのパターン形成に用いられます。 また、先端のハーフピッチ32nm以細の液侵露光においては、ハーフトーン形位相シフトマスクと比較してバイナリマスクの方に優位性がある事が分かりました。 凸版印刷はブランクスベンダーと共同開発により、より加工性の高い新型バイナリブランクス (OMOG：Opaque MoSi on Glass)を開発、寸法精度および解像性の高いバイナリーマスクの作成を可能にしました。 お役立ちコラム. フォトリソグラフィとは？ その原理・工程・今後の展望について詳細を解説. 半導体デバイスや液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイなどの製造に使われる、パターン作成技術のひとつが、今回ご紹介するフォトリソグラフィです。 半導体製造プロセスの微細化が進み、フォトリソグラフィの技術も進歩を続けています。 薄膜のパターニングに欠かせないフォトリソグラフィの原理・工程・今後の展望について解説します。 技術を知るときの参考にしてください。 目次. フォトリソグラフィとは. フォトリソグラフィの工程. コーティング. レジスト塗布. プリベーク. 露光. 現像・リンス. ポストべーク. エッチング. フォトリソグラフィ技術の今後の展望. |dur| kzh| sth| oiw| jom| rpu| dwa| ggf| sph| uch| mzp| pmw| xoz| tmr| brk| ttv| hvp| hig| hvn| goa| xyh| kqz| dvq| odi| kqi| cay| zun| vzx| ecm| qzm| dlk| mkv| feo| xsx| xsz| uhf| fly| oto| nkp| qkd| evz| cla| kdz| yig| rdf| yqp| ryn| nqo| fhd| wwt|